专利和集成电路布图设计的区别

案例：

苏州赛芯电子科技有限公司与深圳裕昇科技有限公司、户财欢、黄建东、黄赛亮侵害集成电路布图设计专有权（下文简称布图设计权）纠纷案〔*高人民法院（2019）*高法知民终490号民事判决书〕

简介：

户财欢作为被告，貌似是在苏州赛芯上过班，*起码是和苏州赛芯有过业务合作。苏州赛芯公司拥有集成电路布图设计权；户财欢从苏州赛芯离开之后，自己开公司生产电子设备，苏州赛芯公司认为户财欢生产的电子设备侵犯了其布图设计权。

我们就用这个案例来说明专利和集成电路布图设计的三点区别。

区别1：专利权和布图设计权如何界定其保护范围？

专利文件包括两大部分：权利要求书和说明书，其中，权利要求书是用来确定专利权的保护范围的。权利要求书中一般有多个权利要求，例如，权利要求1至权利要求10。专利权人在提起诉讼的时候，可以从十个专利权中选择至少之一来进行诉讼。例如，专利权人可以选择权利要求1，当然也可以选择权利要求2。如果专利权人选择了权利要求2进行诉讼，则需要看权利要求2所包括的所有技术特征是否均在被诉侵权产品中出现，如果被诉侵权产品包括了权利要求2的所有技术特征就侵权了。

如果权利要求2的保护范围不清楚，无法界定其保护范围，则会影响权利人的诉讼。

布图设计文件包括两大部分：（1）布图设计的复制件或者图样，复制件或图样的纸件必须交，电子件可以选择交或者不交；（2）布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品。

这其中，电子件是包含全部信息的，可以作为侵权判断的依据。纸件的要求是应当至少放大到用该布图设计生产的集成电路的20倍以上，此时，如果纸件是清晰的，则可以使用纸件来进行判断；但是如果放大到20倍以上仍然看不清楚细节，则可以将提交的集成电路样品剖片，通过技术手段**还原出芯片样品包含的布图设计的详细信息，提取其中的三维配置信息，确定纸件中无法识别的布图设计细节，用以确定布图设计的内容。

如果只递交了纸件，没有递交电子件也没有递交集成电路样品，纸件的不清楚会导致保护范围的不清楚，从而影响权利人的诉讼。

区别2：专利和布局设计是否均公开？

专利的本质是：“公开换保护”，专利在获得授权之后必然是公开的，并且，如果专利在授权后被发现公开的内容不足以实施该发明，则该专利权还可以通过无效程序被无效掉。

布局设计并不是公开的：公众也可以请求查阅该布图设计的复制件或者图样的纸件。由此可见，对于上文中的电子件以及集成电路样品公众都是无法获取到的，并且，如果复印件或者纸件中有保密信息，权利人也可以要求保密。由此可见，对于布图设计中的内容，只有部分公开。这跟专利中的完全公开是不一样的。

区别3：侵权判断是否需要被诉侵权人“接触”？

专利侵权判断就是将权利要求和被诉侵权产品进行比较，这里不需要考虑被告是不是知道这个专利的存在，这是因为专利都是公开的，既然是公开的，那就默认是所有人都知道这个专利的存在。

布局设计权本质上还是一种著作权，如果一个布局设计没有公开，另一个人独立完成了该布局设计，则该独立完成的布局设计并不侵权。这是因为著作权保护独立完成的内容，布局设计有些内容是没有公开的，对于这部分内容，如果被告是独立完成的，则不侵权。因此，对布图设计的侵权认定类似著作权侵权认定思路，不仅需要证明被诉产品落入了保护范围，还需要证明被告接触过原告的布图设计。这一点是跟专利不同的，如果被告能够证明没有接触过原告的布图设计，则被告是不侵权的。来源：原创韩一星韩一星讲专利