高企专利布局避坑：Ⅰ类、Ⅱ类知识产权使用规则

先明确两类知识产权包含范围。Ⅰ类知识产权含金量更高，包含发明专利、防专利、集成电路布图设计专有权、植物新品种、新药等；Ⅱ类知识产权为实用新型专利、软件著作权、外观设计专利。

二者大差异，集中在使用次数、评审分值、布局周期三点，也是稽查关注的内容。

一，核心使用规则，这条红线千万不能碰。Ⅰ类知识产权无重复使用限制，在有效期内，首认定、三年后重新认定都可以反复拿来支撑申报，是长期可用的核心资产。而Ⅱ类知识产权有硬性约束：仅限一次高企认定使用，本次认定用过之后，三年复审、重新认定时，不能再次重复计入知识产权评分。不少企业栽在这里，首申报靠6项软著、实用新型通过，三年复审直接复用这批Ⅱ类知识产权，被专家直接剔除，分数达不到及格线。

二，评分逻辑不一样，不要盲目堆Ⅱ类凑数。评审实行分类评价，1项有效的Ⅰ类发明专利，拿到的分值优于多项Ⅱ类知识产权叠加；单纯依靠软著、实用新型堆数量，在近年从严评审的环境下，很容易被判定创新能力偏弱。另外要重点关注关联性要求，无论Ⅰ类还是Ⅱ类，专利必须对企业主要高新产品、核心技术起到支撑作用。外购、受让来的无关专利，哪怕数量再多，也无法获得高分，甚至不予采信。突击集中授权、申报前批量收购“凑数专利”，更是核查重点，极易触发现场抽查。

三，权属、时间配套的隐性坑点。知识产权所有权必须归属本企业，独占许可使用权不再认可；专利申请时间、研发项目立项、研发费用台账、高新产品收入要形成完整证据链。如果专利授权时间晚于研发结题、或者专利技术和主营业务完全无关，会被认定为“两张皮”，直接失效。外购受让的知识产权，要完成转让备案，配套技术转化证明、样品、销售合同，证明专利在生产中落地应用。

来源：科创风控守护 免责声明：版权归原创所有仅供学习参考之用，禁止用于商业用途，部分文章推送时未能及时与原作者取得联系，若来源标错误侵犯到您的权益烦请告知我们将立即删除。